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[00141359]一种直写制备聚合物光波导的装置

交易价格: 面议

所属行业: 光机电一体化

类型: 实用新型专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:200620163352.X

交易方式: 技术转让

联系人: 华中科技大学

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所在地:湖北武汉市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  本实用新型公开了一种直写制备聚合物光波导的装置,其特征在于:气源通过气管与压力控制装置相连,压力控制装置通过施压气管与微细笔相连,用于控制施压气管中气流的通断和调节气压大小,并向微细笔的储料腔中的浆料提供所需的压力。采用本实用新型直写装置可以在已有的整体下包层上直写芯层,它具有工艺简单(不需要制作掩模-光刻等复杂的工艺),设备造价低、效率高,制作周期短等特点。本实用新型便于将直写技术与现有的半导体工艺相容,如制备掩埋型的聚合物光波导器件的工艺与IC工艺相容,有利于实现光电器件的集成制造。

  本实用新型公开了一种直写制备聚合物光波导的装置,其特征在于:气源通过气管与压力控制装置相连,压力控制装置通过施压气管与微细笔相连,用于控制施压气管中气流的通断和调节气压大小,并向微细笔的储料腔中的浆料提供所需的压力。采用本实用新型直写装置可以在已有的整体下包层上直写芯层,它具有工艺简单(不需要制作掩模-光刻等复杂的工艺),设备造价低、效率高,制作周期短等特点。本实用新型便于将直写技术与现有的半导体工艺相容,如制备掩埋型的聚合物光波导器件的工艺与IC工艺相容,有利于实现光电器件的集成制造。

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