[00928225]一种磁控溅射半球面薄膜的制备方法
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一种磁控溅射半球面薄膜的制备方法，它涉及半球面薄膜的制备方法。它解决了现有镀半球面薄膜的装置中磁控靶固定不动，加热台旋转的同时进行摆动，需要专用夹具装夹待镀工件的问题。本发明的方法为：一，选用靶材，并将衬底材料置于旋转加热台上，整个装置位于真空仓内；二，密封真空仓，抽真空，通入Ar气，电离清洗；三，启动加热灯组，加热并保温；四，向真空仓内通入启辉气体，施加溅射功率，预溅射，控制气体流量，在衬底上加负偏压；五，采用两台步进电机分别控制旋转加热台和靶的运行轨迹来镀膜；六，待真空仓内温度降至室温时即制得半球形薄膜。本发明的待镀工件装夹方便，使镀膜过程稳定，所制备的半球形薄膜均匀，靶材的利用率高。200710072596.6