[00737056]低成本高质量金刚石膜生长技术及热学方面应用
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技术详细介绍
取得的主要成果有：表面改性石墨作原料的高压金刚石合成方法；单晶硅上大面积(100)取向的金刚石膜的生长专利，为金刚石膜在电子学领域的应用打下良好基础；金刚石厚膜的制备及应用研究，用直流热阴极PCVD和电子增强CVD方法制备大面积金刚石厚膜，实现了大面积金刚石厚膜的快速生长；用金刚石膜制作SOI结构的抗辐射半导体材料；用于沉积大面积金刚石膜的灯丝排布固定装置，适合长时间使用制备大面积金刚石膜；热阴极辉光等离子体化学气相沉积制备金刚石膜的工艺，用于金刚石膜的产业化生产；含金刚石膜的SOI集成电路芯片材料及其制作工艺，提高了集成电路的抗辐射性、绝缘性和导热性；金刚石膜上的薄层结构芯片材料及其制作方法，可用于电子器件的制备，使电子器件的抗辐射、耐恶劣环境的性能得到提高。