[00639097]CVD金刚石膜的高效生长技术与设备可行性报告
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技术详细介绍
该课题对热丝法生长CVD金刚石膜的机理与工艺技术开展了深入系统的研究，设计并制造了EACVD金刚石膜沉积设备多台，其性能指标已达国际先进水平。其中，生长厚膜时最大生长直径可达150mm以上，连续稳定生长1.5mm厚；沉积薄膜时，最大面积可达200×200mm^2；解决了生长过程中金刚石晶粒的有效控制问题。同时，还研制成功了CVD金刚石拉丝模、修正笔以及外圆车削刀具等。还对采用电沉积过渡层改善金刚石膜与基体材料件间结合性能开展了大量研究，成功地制备了N_1-金刚石颗粒以及N_1-Mo-金刚石颗粒复合沉积层。采用这些过渡层能够极大地提高金刚石膜与基体材料间的结合性能。