[00336116]一种用于中低真空的磁控溅射靶阴极
交易价格：
面议
所属行业：
化工生产
类型：
发明专利
技术成熟度：
通过小试
专利所属地：中国
专利号：CN201510031692.0
交易方式：
资料待完善
联系人：
钢铁研究总院
进入空间
所在地：北京北京市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明属于磁控溅射镀膜生产设备技术领域，具体涉及一种用于中低真空的磁控溅射靶阴极，该磁控溅射靶阴极包括阴极体外壳(1)、靶材(2)、外磁体(3)、内磁体(4)、基座(5)和冷却通道(6)，其中，阴极体外壳(1)为中空的圆筒形，圆筒侧壁镶嵌有外磁体(3)，阴极体外壳(1)中心设置内磁体(4)，内磁体(4)与阴极体外壳(1)之间为冷却通道(6)；阴极体外壳(1)上表面为靶材(2)，下表面为基座(5)；内磁体(4)和外磁体(3)有1～10mm的高度差。本发明通过优化磁控溅射靶阴极结构的方法来提高靶材利用率，结构简单，可操作性强，性能可靠。
摘要：本发明属于磁控溅射镀膜生产设备技术领域，具体涉及一种用于中低真空的磁控溅射靶阴极，该磁控溅射靶阴极包括阴极体外壳(1)、靶材(2)、外磁体(3)、内磁体(4)、基座(5)和冷却通道(6)，其中，阴极体外壳(1)为中空的圆筒形，圆筒侧壁镶嵌有外磁体(3)，阴极体外壳(1)中心设置内磁体(4)，内磁体(4)与阴极体外壳(1)之间为冷却通道(6)；阴极体外壳(1)上表面为靶材(2)，下表面为基座(5)；内磁体(4)和外磁体(3)有1～10mm的高度差。本发明通过优化磁控溅射靶阴极结构的方法来提高靶材利用率，结构简单，可操作性强，性能可靠。
