[00332044]一种单分子层HNbWO6纳米片的制备方法
交易价格:
面议
所属行业:
纳米及超细材料
类型:
发明专利
技术成熟度:
通过小试
专利所属地:中国
专利号:CN201510239795.6
交易方式:
资料待完善
联系人:
福州大学
进入空间
所在地:福建福州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要:本发明公开了一种单分子层HNbWO6纳米片的制备方法,属于材料制备和光催化技术领域。采用三乙醇胺为剥离剂原位快速剥离HNbWO6层状化合物为单分子层HNbWO6纳米片。本发明制备方法简单、使用性强、原料廉价易得、节能环保,有利于大规模的工业生产,具备显著地经济和社会效益。该制备方法具有普适性,可以原位快速剥离其它层状化合物比如HTaWO6、HNbXTa1-XO6等,并且该方法还可以拓展到其它有机胺剥离剂,比如三异丙醇胺。
摘要:本发明公开了一种单分子层HNbWO6纳米片的制备方法,属于材料制备和光催化技术领域。采用三乙醇胺为剥离剂原位快速剥离HNbWO6层状化合物为单分子层HNbWO6纳米片。本发明制备方法简单、使用性强、原料廉价易得、节能环保,有利于大规模的工业生产,具备显著地经济和社会效益。该制备方法具有普适性,可以原位快速剥离其它层状化合物比如HTaWO6、HNbXTa1-XO6等,并且该方法还可以拓展到其它有机胺剥离剂,比如三异丙醇胺。