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[00332044]一种单分子层HNbWO6纳米片的制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 纳米及超细材料

类型: 发明专利

技术成熟度: 通过小试

专利所属地:中国

专利号:CN201510239795.6

交易方式: 资料待完善

联系人: 福州大学

进入空间

所在地:福建福州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

摘要:本发明公开了一种单分子层HNbWO6纳米片的制备方法,属于材料制备和光催化技术领域。采用三乙醇胺为剥离剂原位快速剥离HNbWO6层状化合物为单分子层HNbWO6纳米片。本发明制备方法简单、使用性强、原料廉价易得、节能环保,有利于大规模的工业生产,具备显著地经济和社会效益。该制备方法具有普适性,可以原位快速剥离其它层状化合物比如HTaWO6、HNbXTa1-XO6等,并且该方法还可以拓展到其它有机胺剥离剂,比如三异丙醇胺。
摘要:本发明公开了一种单分子层HNbWO6纳米片的制备方法,属于材料制备和光催化技术领域。采用三乙醇胺为剥离剂原位快速剥离HNbWO6层状化合物为单分子层HNbWO6纳米片。本发明制备方法简单、使用性强、原料廉价易得、节能环保,有利于大规模的工业生产,具备显著地经济和社会效益。该制备方法具有普适性,可以原位快速剥离其它层状化合物比如HTaWO6、HNbXTa1-XO6等,并且该方法还可以拓展到其它有机胺剥离剂,比如三异丙醇胺。

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