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[00330852]超宽禁带半导体氧化镓单晶

交易价格: 面议

所属行业: 铁路运输

类型: 非专利

技术成熟度: 通过中试

交易方式: 资料待完善

联系人:牟春竹

所在地:山东济南市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  超宽禁带半导体氧化镓晶体是新一代半导体材料,在能源、信息、国防、轨道交通、电动汽车等领域具有重要应用价值。氧化镓具有禁带宽度大、吸收截止边短等优点,是超高压功率器件和深紫外光电子器件的优选材料。

  本大学拥有该晶体及生长工艺的完整知识产权,可以生长高质量、大尺寸单晶,晶体位错密度仅为104cm-2;通过不同元素掺杂氧化镓晶体生长工艺,实现了晶体电阻率在10-3-1011Ωcm的连续可调;研制的单晶衬底表面粗糙度<0。5 nm,完全符合器件制作要求;高质量单晶衬底与GaN失配小、透明导电,可以用于制备垂直结构的高亮度LED;该成果处于国内领先水平,具有单晶生长速度快、成本低等特点,对于推进我国宽禁带半导体技术发展和进步具有重大意义。


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   成果相关图片

  应用情况:

  该成果主要用于新一代信息技术、新材料等领域,是功率器件、紫外光电探测、高亮度LED的关键材料。据统计,目前宽禁带半导体市场已经达到2万亿元,氧化镓作为高性能的新一代超宽禁带半导体材料,在未来将占据重要的市场份额。作为可通过熔体法快速生长的低成本宽禁带半导体材料,亦将在部分领域取代Si基器件,开拓更大市场空间。
  超宽禁带半导体氧化镓晶体是新一代半导体材料,在能源、信息、国防、轨道交通、电动汽车等领域具有重要应用价值。氧化镓具有禁带宽度大、吸收截止边短等优点,是超高压功率器件和深紫外光电子器件的优选材料。

  本大学拥有该晶体及生长工艺的完整知识产权,可以生长高质量、大尺寸单晶,晶体位错密度仅为104cm-2;通过不同元素掺杂氧化镓晶体生长工艺,实现了晶体电阻率在10-3-1011Ωcm的连续可调;研制的单晶衬底表面粗糙度<0。5 nm,完全符合器件制作要求;高质量单晶衬底与GaN失配小、透明导电,可以用于制备垂直结构的高亮度LED;该成果处于国内领先水平,具有单晶生长速度快、成本低等特点,对于推进我国宽禁带半导体技术发展和进步具有重大意义。


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  应用情况:

  该成果主要用于新一代信息技术、新材料等领域,是功率器件、紫外光电探测、高亮度LED的关键材料。据统计,目前宽禁带半导体市场已经达到2万亿元,氧化镓作为高性能的新一代超宽禁带半导体材料,在未来将占据重要的市场份额。作为可通过熔体法快速生长的低成本宽禁带半导体材料,亦将在部分领域取代Si基器件,开拓更大市场空间。

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