[00301002]连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法
交易价格：
面议
所属行业：
光学仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN200910071492.2
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
哈尔滨工业大学
进入空间
所在地：黑龙江哈尔滨市
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- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：一种连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法，该方法包括以下步骤：①以连续浮雕结构微光学元件的理想形貌为基准，得到抗蚀剂表面设计轮廓，并以此为起点；②通过MCFPM模型，仿真分析得到该抗蚀剂轮廓经过干法刻蚀后的传递形貌；③将步骤②中得到的仿真传递形貌与理想形貌相比较，得到图形传递误差，并将其叠加到步骤②起始的抗蚀剂表面轮廓上，得到经过补偿后抗蚀剂设计轮廓；④以步骤③中得到的抗蚀剂设计轮廓作为新的仿真起点，重复进行步骤②和③，得到二次补偿的仿真形貌；⑤重复步骤④所述的仿真及迭代过程，直至仿真传递形貌和理想形貌的误差满足要求；该方法具有成本低、普适性好等特点。
摘要：一种连续浮雕结构微光学元件干法刻蚀图形传递误差补偿方法，该方法包括以下步骤：①以连续浮雕结构微光学元件的理想形貌为基准，得到抗蚀剂表面设计轮廓，并以此为起点；②通过MCFPM模型，仿真分析得到该抗蚀剂轮廓经过干法刻蚀后的传递形貌；③将步骤②中得到的仿真传递形貌与理想形貌相比较，得到图形传递误差，并将其叠加到步骤②起始的抗蚀剂表面轮廓上，得到经过补偿后抗蚀剂设计轮廓；④以步骤③中得到的抗蚀剂设计轮廓作为新的仿真起点，重复进行步骤②和③，得到二次补偿的仿真形貌；⑤重复步骤④所述的仿真及迭代过程，直至仿真传递形貌和理想形貌的误差满足要求；该方法具有成本低、普适性好等特点。
