X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
关于我们 | 帮助中心
欢迎来到国家技术转移西南中心---区域技术转移公共服务平台,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00278597]一种基于氧化锌/碳杂化纳米结构的多比特存储器及其制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610611579.4

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 南昌大学

进入空间

所在地:江西南昌市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
|
收藏
|

技术详细介绍

摘要:一种基于氧化锌/碳杂化纳米结构的多比特存储器,其特征是包括源极、二氧化硅氧化层、P型硅片、单根一维氧化锌/碳杂化纳米线、栅极、漏极、导线;在P型硅片上表面为二氧化硅氧化层,在二氧化硅氧化层的中间位置水平放置单根一维氧化锌/碳杂化纳米线,单根一维氧化锌/碳杂化纳米线的两端分别为源极和漏极,栅极位于P型硅片衬底底面中心;源极、漏极、栅极分别通过在单根一维ZnO/C杂化纳米线的两端和P型硅片衬底底面中心点银、金或铂浆获得。本发明的多比特存储器具有良好的电阻开关特性,可作为场效应晶体管存储器件使用,器件的制备工艺简单,对实际应用非常有利。
摘要:一种基于氧化锌/碳杂化纳米结构的多比特存储器,其特征是包括源极、二氧化硅氧化层、P型硅片、单根一维氧化锌/碳杂化纳米线、栅极、漏极、导线;在P型硅片上表面为二氧化硅氧化层,在二氧化硅氧化层的中间位置水平放置单根一维氧化锌/碳杂化纳米线,单根一维氧化锌/碳杂化纳米线的两端分别为源极和漏极,栅极位于P型硅片衬底底面中心;源极、漏极、栅极分别通过在单根一维ZnO/C杂化纳米线的两端和P型硅片衬底底面中心点银、金或铂浆获得。本发明的多比特存储器具有良好的电阻开关特性,可作为场效应晶体管存储器件使用,器件的制备工艺简单,对实际应用非常有利。

推荐服务:

Copyright © 2016    国家技术转移西南中心-区域技术转移公共服务平台     All Rights Reserved     蜀ICP备12030382号-1

主办单位:四川省科技厅、四川省科学技术信息研究所、四川省技术转移中心科易网