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[00274793]一种带隙渐变硅量子点多层膜的太阳电池及制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201210514093.0

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 南京大学

进入空间

所在地:江苏南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

带隙渐变硅量子点多层膜的太阳电池,包括p型硅衬底,p型硅衬底上设有渐变厚度的多层非晶硅/碳化硅膜结构,渐变厚度的非晶硅/碳化硅指硅量子点/碳化硅多层膜结构,由p型硅衬底、碳化硅本征层即i层和最外层的n型纳米晶硅膜构成的p-i-n电池结构;并在表面引出电极构成电池。p型硅衬底上往表面生长的每个氢化非晶硅/碳化硅的周期中非晶硅子层厚度是逐渐减薄的;p型硅衬底上或近p型硅衬底生长的非晶硅子层最厚,往表面生长的非晶硅子层最薄。
带隙渐变硅量子点多层膜的太阳电池,包括p型硅衬底,p型硅衬底上设有渐变厚度的多层非晶硅/碳化硅膜结构,渐变厚度的非晶硅/碳化硅指硅量子点/碳化硅多层膜结构,由p型硅衬底、碳化硅本征层即i层和最外层的n型纳米晶硅膜构成的p-i-n电池结构;并在表面引出电极构成电池。p型硅衬底上往表面生长的每个氢化非晶硅/碳化硅的周期中非晶硅子层厚度是逐渐减薄的;p型硅衬底上或近p型硅衬底生长的非晶硅子层最厚,往表面生长的非晶硅子层最薄。

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