[00265404]基于全介质高反射膜的中红外可饱和吸收镜及其制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
专用化学
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201710363165.9
交易方式：
技术转让
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技术入股
联系人：
四川大学
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所在地：四川成都市
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对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍
本发明公开了一种结构紧凑、制备工艺简单、周期短、连续、生产成本低、用于中红外激光器中，基于全介质高反射膜的可饱和吸收镜及其制备方法。该可饱和吸收镜包括基底、镀在所述基底上且掺杂有过渡金属离子的多层高折射率膜层以及在所述高折射率膜层之间镀有的低折射率膜层。本发明所述的全介质高反射膜采用折射率为2.5~3的Ⅱ‑Ⅵ族化合物膜层制备成高折射率膜层，同时作为掺杂过渡金属离子的基体。采用折射率为1.3~2的氧化物膜层制备成低折射率膜层。该可饱和吸收镜能够用于中红外激光器中对激光进行调制，输出超短脉冲；而且结构紧凑简单、损耗低、损伤阈值高，可用于高功率激光器中。
本发明公开了一种结构紧凑、制备工艺简单、周期短、连续、生产成本低、用于中红外激光器中，基于全介质高反射膜的可饱和吸收镜及其制备方法。该可饱和吸收镜包括基底、镀在所述基底上且掺杂有过渡金属离子的多层高折射率膜层以及在所述高折射率膜层之间镀有的低折射率膜层。本发明所述的全介质高反射膜采用折射率为2.5~3的Ⅱ‑Ⅵ族化合物膜层制备成高折射率膜层，同时作为掺杂过渡金属离子的基体。采用折射率为1.3~2的氧化物膜层制备成低折射率膜层。该可饱和吸收镜能够用于中红外激光器中对激光进行调制，输出超短脉冲；而且结构紧凑简单、损耗低、损伤阈值高，可用于高功率激光器中。
