[00259143]一种简单的均匀光针聚焦微结构及设计方法
交易价格：
面议
所属行业：
光学仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201611045612.8
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
西安交通大学
进入空间
所在地：陕西西安市
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- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种简单的均匀光针聚焦微结构及设计方法，由两组对应不同焦距的二元振幅型菲涅尔波带片半径序列复合而成，并对微结构中心区域进行遮挡，其构造过程为给定照明波长和第一焦距，确定第一组环带半径序列{r1,n}；初选第二焦距得到第二组环带半径序列{r2,m}；适当选择{r2,m}中的部分序列段替换{r1,n}中的部分序列段形成新的微结构环带半径序列；各环带透过率规定为，先设定中心遮挡圆，从中心遮挡圆半径坐标开始至最外环带半径各环带透过率按{1,0}交替编码，且起始环带透过率为1；优选结构参数实现均匀光针强度场分布；该设计方法适用于多种典型偏振激光光束照明情形，设计的微结构可应用于激光微细加工、高分辨率显微成像、光学操控等领域。
本发明公开了一种简单的均匀光针聚焦微结构及设计方法，由两组对应不同焦距的二元振幅型菲涅尔波带片半径序列复合而成，并对微结构中心区域进行遮挡，其构造过程为给定照明波长和第一焦距，确定第一组环带半径序列{r1,n}；初选第二焦距得到第二组环带半径序列{r2,m}；适当选择{r2,m}中的部分序列段替换{r1,n}中的部分序列段形成新的微结构环带半径序列；各环带透过率规定为，先设定中心遮挡圆，从中心遮挡圆半径坐标开始至最外环带半径各环带透过率按{1,0}交替编码，且起始环带透过率为1；优选结构参数实现均匀光针强度场分布；该设计方法适用于多种典型偏振激光光束照明情形，设计的微结构可应用于激光微细加工、高分辨率显微成像、光学操控等领域。
