[00258028]等离子体射流阵列协同机械旋转运动的材料处理装置
交易价格：
面议
所属行业：
自动化应用
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201610438344.X
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
西安交通大学
进入空间
所在地：陕西西安市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种等离子体射流阵列协同机械旋转运动的材料处理装置，包括腔体、射流阵列、支架和载物台。其中，射流阵列产生的多个均匀等离子体射流通过荷电粒子间的相互作用耦合为大面积均匀的低温等离子体；该等离子体发生器利用支架固定于载物台上方，可以实现方向、位置和间距的多维度调节；载物台内集成了速度可调的电动转盘，可实现待处理材料的匀速旋转运动；等离子体的产生及材料处理可根据实际需求在腔体内进行。本发明通过产生等离子体射流阵列，协同电学、光学和机械工程，实现对材料进行大面积、均匀的处理，可以应用于材料表面改性方面的研究、教学和工业生产推广。
本发明公开了一种等离子体射流阵列协同机械旋转运动的材料处理装置，包括腔体、射流阵列、支架和载物台。其中，射流阵列产生的多个均匀等离子体射流通过荷电粒子间的相互作用耦合为大面积均匀的低温等离子体；该等离子体发生器利用支架固定于载物台上方，可以实现方向、位置和间距的多维度调节；载物台内集成了速度可调的电动转盘，可实现待处理材料的匀速旋转运动；等离子体的产生及材料处理可根据实际需求在腔体内进行。本发明通过产生等离子体射流阵列，协同电学、光学和机械工程，实现对材料进行大面积、均匀的处理，可以应用于材料表面改性方面的研究、教学和工业生产推广。
