[00257926]一种自带基准的位移测量装置及测量方法
交易价格：
面议
所属行业：
检测仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201010129320.9
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
西安交通大学
进入空间
所在地：陕西西安市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种自带基准的位移测量装置及测量方法，该装置包括设置被测点的一点光源、复合透镜、带有前后通光缝的定位框和CCD或PSD光电器件，利用点光源透过复合透镜产生一宽视场平行光，该平行光依次通过前、后两个通光缝。当在光路中有一被测标志物时，被测标志物会挡住一部分光线，在CCD或PSD靶面上产生阴影带，测量阴影带中心相对定位框后通光缝边沿位置的变化，就可获得被测物位置的变化。该方法可应用于各种大坝、桥梁、高楼和高边坡的基点的变形测量，结构简单、性价比高，并且采用非接触式测量，测量精确度高，可实时监测。
本发明公开了一种自带基准的位移测量装置及测量方法，该装置包括设置被测点的一点光源、复合透镜、带有前后通光缝的定位框和CCD或PSD光电器件，利用点光源透过复合透镜产生一宽视场平行光，该平行光依次通过前、后两个通光缝。当在光路中有一被测标志物时，被测标志物会挡住一部分光线，在CCD或PSD靶面上产生阴影带，测量阴影带中心相对定位框后通光缝边沿位置的变化，就可获得被测物位置的变化。该方法可应用于各种大坝、桥梁、高楼和高边坡的基点的变形测量，结构简单、性价比高，并且采用非接触式测量，测量精确度高，可实时监测。
