技术详细介绍
本实用新型涉及一种用于分析三氯氢硅中痕量杂质的前处理装置（专利号201420668158.1），该装置包括密闭装置主体、混合气体收集器、吸收塔、与所述密闭装置主体相连的样品瓶。所述密闭装置主体的一侧设有混合气体出口接口，其中部设有氮气进口接口，其内壁设有螺纹Ⅰ；所述氮气进口接口通过硅胶管Ⅰ依次连接流量计、氮气控制阀至氮气管路；所述混合气体出口接口通过硅胶管Ⅱ与所述混合气体收集器相连，该混合气体收集器的一端经混合气体进口与所述吸收塔相连；所述吸收塔的一侧设有自来水出口，其顶部设有未反应的其它气体出口，其塔内上部设有带喷啉头的自来水管线，该自来水管线外接自来水总管；所述样品瓶设有外罩。本实用新型操作简单、重现性较好，可避免样品污染。