联系人:王晓龙
所在地:甘肃兰州市
成果介绍:
研制的聚酰亚胺光刻胶光刻后光刻线尺寸与掩膜线尺寸相切合,且边界清晰,光刻过程没有发生热聚合,工艺条件与光敏聚酰亚胺相对匹配。光刻工艺还待进一步优化选择,包括前后烘烤时间和温度,曝光光强和时间等条件显影液极性还需要调节,还需要进一步研制与光敏聚酰亚胺完全匹配的显影体系。光刻后不留底膜,薄膜厚度小于100 um,光刻后上下口宽度差不超过线宽的1/5。
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