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[00152080]基于虚衬底的硅锗异质结光晶体管

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:200810070524.2

交易方式: 技术转让 技术转让 技术转让

联系人: 厦门大学

进入空间

所在地:福建厦门市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  项目简介:

  基于虚衬底的硅锗异质结光晶体管,涉及一种异质结光晶体管。提供一种可极大地增加吸收区SiGe层的锗组分和SiGe层厚度,响应度高,响应波长范围宽,可对各区的Ge组分和厚度自由调节,设计灵活性强,主要用于近红外波段入射光探测的基于虚衬底的硅锗异质结光晶体管。设有硅基硅锗虚衬底,在虚衬底上依次设有集电区、吸收区、基区和发射区,集电区为Si↓[1-y]Ge↓[y]层,吸收区为Si↓[1-z]Ge↓[z](y<z≤1)层或Si↓[1-z]Ge↓[z]/Si↓[1-y]Ge↓[y](y<z≤1)多周期量子阱,基区为压应变的Si↓[1-x]Ge↓[x]层(y<x≤1),发射区为Si↓[1-y]Ge↓[y]层;在集电区、基区和发射区上设电极。


  项目简介:

  基于虚衬底的硅锗异质结光晶体管,涉及一种异质结光晶体管。提供一种可极大地增加吸收区SiGe层的锗组分和SiGe层厚度,响应度高,响应波长范围宽,可对各区的Ge组分和厚度自由调节,设计灵活性强,主要用于近红外波段入射光探测的基于虚衬底的硅锗异质结光晶体管。设有硅基硅锗虚衬底,在虚衬底上依次设有集电区、吸收区、基区和发射区,集电区为Si↓[1-y]Ge↓[y]层,吸收区为Si↓[1-z]Ge↓[z](y<z≤1)层或Si↓[1-z]Ge↓[z]/Si↓[1-y]Ge↓[y](y<z≤1)多周期量子阱,基区为压应变的Si↓[1-x]Ge↓[x]层(y<x≤1),发射区为Si↓[1-y]Ge↓[y]层;在集电区、基区和发射区上设电极。


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