[01491284]一种具有纳米结构的OLED制造工艺
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技术详细介绍
本发明公开了一种具有亚微米结构的OLED制造工艺,包括下述步骤：（a）制备二氧化硅薄膜：通过磁控溅射在玻璃基片上覆上一层二氧化硅薄膜;（b）二氧化硅图形化：在步骤（a）所述的二氧化硅薄膜上制作纳米图形结构;（c）制作OLED结构阳极：在二氧化硅上均匀旋涂一层ITO导电溶胶,使其作为此OLED结构阳极;（d）在阳极上依次蒸镀空穴输运层,蒸镀发光层及电子输运层,最后蒸镀阴极。本发明的OLED制造工艺,容易便制作出适用于OLED器件的高精度的亚微米级结构,解决了OLED的玻璃上不易图形化的难题,使得导电透明ITO薄膜成膜更为均匀,ITO电极良品率高、出光率高。