[00142638]一种温度连续可调的喷淋头
交易价格：
面议
所属行业：
卫浴
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：201310258291.X
交易方式：
技术转让
联系人：
中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
进入空间
所在地：江苏苏州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
一种温度连续可调的喷淋头，用于进行金属有机化学沉积反应，包括：进气单元；反应室上盖；连接于进气单元和反应室上盖的喷淋管；其特征在于，还包括：调温
盘组件，调温盘组件包括调温盘及分设两边的入口通道和出口通道，调温盘内设有供冷却介质流通的空腔，相对密封的空腔与入口通道和出口通道与空腔连通，调温
盘上还对应喷淋管设有通孔，喷淋管穿插于通孔中，高温盘可上下移动连接于反应室上盖和进气单元之间；位移装置，用于调节调温盘组件上下移动。本发明可通过
改变调温盘与反应室上盖的距离来调整反应室内顶端空间的温度，在生长HEMT器件、LED行业广泛应用，不仅可以解决反应室内温度梯度的有效控制问题，还
能提高源的使用效率。
一种温度连续可调的喷淋头，用于进行金属有机化学沉积反应，包括：进气单元；反应室上盖；连接于进气单元和反应室上盖的喷淋管；其特征在于，还包括：调温
盘组件，调温盘组件包括调温盘及分设两边的入口通道和出口通道，调温盘内设有供冷却介质流通的空腔，相对密封的空腔与入口通道和出口通道与空腔连通，调温
盘上还对应喷淋管设有通孔，喷淋管穿插于通孔中，高温盘可上下移动连接于反应室上盖和进气单元之间；位移装置，用于调节调温盘组件上下移动。本发明可通过
改变调温盘与反应室上盖的距离来调整反应室内顶端空间的温度，在生长HEMT器件、LED行业广泛应用，不仅可以解决反应室内温度梯度的有效控制问题，还
能提高源的使用效率。
