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[00141235]高频辉光放电等离子体化学气相沉积(PECVD)装置

交易价格: 面议

所属行业: 其他新材料技术

类型: 非专利

技术成熟度: 正在研发

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股 技术转让

联系人: 北京交通大学

进入空间

所在地:北京北京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

高频辉光放电等离子体化学气相沉积(PECVD)装置

  项目简介:

  PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition)—等离子体化学气相沉积,在化学气相沉积领域具有很好的前景。利用等离子体中大量高能量的电子,提供化学气相沉积过程所需的激活能,相对于其它CVD 方法具有显著降低CVD 薄膜沉积的温度等优点。包括辉光放电等离子体发生电源、气体质量流量计、真空计、分子泵等多个组成单元。可以在不同气压和气体环境下进行PECVD。

  技术特点:

  1)自主研发的等离子体发生电源可输出较大范围内幅值、频率可调的放电电压信号;2)可实现100~105 Pa 不同气压以及不同气体环境,且通过气体流量精确控制实现在任一气压值稳定气压状态。3)专用设计的反映腔体结构和水冷放电电极结构,可长时间、稳定地生成PECVD 用辉光放电等离子体。腔体内部包含多种可调性测量结构,可以对生成的等离子体和PECVD 过程进行多种形式的监测。4)该装置根据产品化标准进行了多重安全性和人机互动性专门设计,符合产品要求。
高频辉光放电等离子体化学气相沉积(PECVD)装置

  项目简介:

  PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition)—等离子体化学气相沉积,在化学气相沉积领域具有很好的前景。利用等离子体中大量高能量的电子,提供化学气相沉积过程所需的激活能,相对于其它CVD 方法具有显著降低CVD 薄膜沉积的温度等优点。包括辉光放电等离子体发生电源、气体质量流量计、真空计、分子泵等多个组成单元。可以在不同气压和气体环境下进行PECVD。

  技术特点:

  1)自主研发的等离子体发生电源可输出较大范围内幅值、频率可调的放电电压信号;2)可实现100~105 Pa 不同气压以及不同气体环境,且通过气体流量精确控制实现在任一气压值稳定气压状态。3)专用设计的反映腔体结构和水冷放电电极结构,可长时间、稳定地生成PECVD 用辉光放电等离子体。腔体内部包含多种可调性测量结构,可以对生成的等离子体和PECVD 过程进行多种形式的监测。4)该装置根据产品化标准进行了多重安全性和人机互动性专门设计,符合产品要求。

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