技术详细介绍
目前太阳能单晶、多晶电池工艺包括：制绒、扩散、清洗、镀膜、丝网印刷等主要工艺。其中镀膜普遍采用CVD（化学气相沉积）方法，在硅片表面沉积一层SIN薄膜，增加光线的入射，提高电池效率。但CVD镀膜存在环境污染、且所镀膜层单一无法最大程度增加光线入射。
本技术旨在改善电池的镀膜工艺，提高电池效率。采用的PVD(物理气相沉积)磁控溅射镀膜。它是一种先进的纳米薄膜沉积技术，在硅片表面沉积SIN+SIO2薄膜，沉积薄膜的致密性能可自由调控，改善的光学膜材料和膜结构可以进一步增加光线的入射（增加约3%），初步估算可将电池效率提高1%以上。PVD与CVD工艺相比，通过布置多个腔体，多个靶材，且采用直流电源，设备成本不会增加，且产能可以自由调控。
本技术包括镀膜设备订购和工艺的转让。
本技术旨在改善电池的镀膜工艺，提高电池效率。采用的PVD(物理气相沉积)磁控溅射镀膜。它是一种先进的纳米薄膜沉积技术，在硅片表面沉积SIN+SIO2薄膜，沉积薄膜的致密性能可自由调控，改善的光学膜材料和膜结构可以进一步增加光线的入射（增加约3%），初步估算可将电池效率提高1%以上。PVD与CVD工艺相比，通过布置多个腔体，多个靶材，且采用直流电源，设备成本不会增加，且产能可以自由调控。
本技术包括镀膜设备订购和工艺的转让。