[00135629]微纳米压印技术与设备
交易价格：
面议
所属行业：
其他机械
类型：
发明专利
技术成熟度：
可规模生产
专利所属地：中国
专利号：zl01134125.4
交易方式：
技术转让
技术转让
联系人：
苏州大学
进入空间
所在地：江苏苏州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
应用领域：科学研究、工业应用
1、纳米压印
2、基因芯片基片复制
3、光栅复制
4、光导板加工
5、其他微结构加工
性能指标：
压印输出精度：>30nm
单元面积：50mmx50mm
阵列幅面：640mm x 800mm
创新内容：
采用相关技术，在聚合物表面进行快速纳米压印光刻，最小结构：>30纳米，速度快1s/单次压印，可快速更换压印头。在软件的控制下，进行多图形组合压印光刻方式，形成阵列图形。
具有国际先进水平，功能最强、已投入工业化应用。
应用前景：
精密电路掩模、精密纳米结构，精密光导器件、显示器件衍射光学列阵器件。
应用领域：科学研究、工业应用
1、纳米压印
2、基因芯片基片复制
3、光栅复制
4、光导板加工
5、其他微结构加工
性能指标：
压印输出精度：>30nm
单元面积：50mmx50mm
阵列幅面：640mm x 800mm
创新内容：
采用相关技术，在聚合物表面进行快速纳米压印光刻，最小结构：>30纳米，速度快1s/单次压印，可快速更换压印头。在软件的控制下，进行多图形组合压印光刻方式，形成阵列图形。
具有国际先进水平，功能最强、已投入工业化应用。
应用前景：
精密电路掩模、精密纳米结构，精密光导器件、显示器件衍射光学列阵器件。
