[00134493]一种Ⅲ族氮化物纳米阵列结构太阳能电池的制作方法
交易价格：
面议
所属行业：
纳米及超细材料
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：201010196477.3
交易方式：
技术转让
联系人：
中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
进入空间
所在地：江苏苏州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明揭示了一种Ⅲ族氮化物纳米阵列结构太阳能电池的制作方法，包括步骤：Ⅰ、对GaN样品台面进行第一次刻蚀，形成台阶状的样品结构；Ⅱ、在台阶上方的p区或n区的台面上制作微结构掩模层并进行第二次台面刻蚀形成纳米柱阵列，同时露出与台阶下方台面相一致的n区或p区；Ⅲ、对带纳米柱阵列的GaN样品旋涂填充物，使之平面化；Ⅳ、在对应于纳米柱阵列的平面化GaN样品表面制作电流扩展层；Ⅴ、在电流扩展层表面及台阶下方台面上沉积金属，制作n/p电极。本发明基于传统工艺作出调整，能有效避免台阶下方电极区粗糙，使淀积的金属粘附性增强，不易剥落；提高了电学连接的稳定性和器件的可靠性；同时该制作方法还具有简单快捷，普适性强的特点。
本发明揭示了一种Ⅲ族氮化物纳米阵列结构太阳能电池的制作方法，包括步骤：Ⅰ、对GaN样品台面进行第一次刻蚀，形成台阶状的样品结构；Ⅱ、在台阶上方的p区或n区的台面上制作微结构掩模层并进行第二次台面刻蚀形成纳米柱阵列，同时露出与台阶下方台面相一致的n区或p区；Ⅲ、对带纳米柱阵列的GaN样品旋涂填充物，使之平面化；Ⅳ、在对应于纳米柱阵列的平面化GaN样品表面制作电流扩展层；Ⅴ、在电流扩展层表面及台阶下方台面上沉积金属，制作n/p电极。本发明基于传统工艺作出调整，能有效避免台阶下方电极区粗糙，使淀积的金属粘附性增强，不易剥落；提高了电学连接的稳定性和器件的可靠性；同时该制作方法还具有简单快捷，普适性强的特点。
