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[00134408]一种探测集成电路衬底噪声的方法

交易价格: 面议

所属行业: 纳米及超细材料

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:200910025230.2

交易方式: 技术转让

联系人: 中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

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所在地:江苏苏州市

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产权明晰
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对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍

本发明提供一种探测集成电路衬底噪声的方法,设计一个采用PMOS管组成的信号通路,采用折叠式结构的两级放大器,作为衬底噪声探测电路,衬底噪声探测电路包括噪声信号耦合部分和信号放大电路,衬底噪声探测电路给出噪声的准确时域波形,经过快速傅里叶变化,通过频域信息,得到噪声在频域上的特点,同时能避免在信号通路中因使用NMOS管而引入的噪声,进而为如何减少,甚至避免数字电路引入的衬底噪声对敏感的模拟电路的影响,缩短SOC的设计周期和提高其成功率。
本发明提供一种探测集成电路衬底噪声的方法,设计一个采用PMOS管组成的信号通路,采用折叠式结构的两级放大器,作为衬底噪声探测电路,衬底噪声探测电路包括噪声信号耦合部分和信号放大电路,衬底噪声探测电路给出噪声的准确时域波形,经过快速傅里叶变化,通过频域信息,得到噪声在频域上的特点,同时能避免在信号通路中因使用NMOS管而引入的噪声,进而为如何减少,甚至避免数字电路引入的衬底噪声对敏感的模拟电路的影响,缩短SOC的设计周期和提高其成功率。

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