[01254803]一种利用数字掩模制作曲面微透镜阵列的方法

技术背景：曲面微透镜阵列是仿生复眼中最为关键的部件，目前直接制作曲面微透镜阵列的方法主要有激光（或电子束）直写技术和投影光刻等技术。

有两个因素极大的制约了这种技术的发展：第一是掩模板需要高额的制作费用，第二是掩模与基底的相对多维运动难以精确控制。

针对这两个制约投影光刻制作曲面微透镜阵列技术的发展，结合基于空间光调制器进行数字掩模投影光刻的优点，提出一种利用数字掩模制作曲面微透镜阵列的方法。

技术方案：本发明方法利用数字掩模投影光刻技术，将曲面微透镜阵列拆分为曲面体和微透镜阵列两个部分，结合空间光调制器曝光剂量调制曲线和光刻胶响应曲线计算出这两个部分分别对应的数字掩模，再在涂覆光刻胶的基底上同一位置分别进行曝光制作，从而完成曲面微透镜阵列的制作。

技术要点：

1、提出了一种利用数字掩模制作曲面微透镜阵列的方法。

2、将曲面微透镜阵列的体函数分解为两个独立的数字掩模分别进行曝光制作，突破了数字掩模投影光刻制作时纵向深度梯度受限于空间光调制器的灰度级数，使光刻胶接收到的曝光剂量调制级数由空间光调制器的灰度级数扩大为其两倍。

3、利用空间光调制器快速、准确的投影数字掩模，可以避免在掩模与基底相对运动过程中的对准误差。

4、无实体掩模可大大减少掩模制作的费用且掩模设计非常灵活。