[01205909]一种用于无掩模扫描光刻的大面积曝光方法
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技术详细介绍
一种用于无掩模扫描光刻的大面积曝光方法,用于提高大面积光刻尤其是批量光刻中的图像预处理速度。本发明采用N组（每组m个）数字微镜DMD,在曝光图像的预处理阶段,只生成图像中相似的N块区域中的一份曝光帧数据;相应地把N组数字微镜DMD调整到N块区域的相应的起点,然后它们保持相对位置不变,连续扫描曝光同一份曝光帧数据。本发明可以大幅度提高图像预处理速度,减少生成的曝光帧数据的冗余,从而提高无掩模扫描光刻系统的整体效率。