X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
关于我们 | 帮助中心
欢迎来到国家技术转移西南中心---区域技术转移公共服务平台,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[01074067]高温微电子器件和电路

交易价格: 面议

所属行业: 微电子

类型: 非专利

交易方式: 资料待完善

联系人:

所在地:

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
|
收藏
|

技术详细介绍

高温微电子器件和电器需满足航空航天、核技术和军事电子等高新技术领域的迫切需求,为此,拟开展下列研究工作:硅集成器件高温工作极限;高温MOS器件和集成电路的按比例缩小理论;宽温区MOS和CMOS电路优化设计理论;宽温区(25—250℃以上)的体硅MOS和CMOS集成电路;宽温区(25—300℃以上)S为MOS和CMOS电路;ECR/CVD和MBE SiC薄膜大面积外延生长和掺杂技术;SiC薄膜电参数的测试分析;高温(350℃以上)SiC器件。通过深入研究微电子器件和电路的高温物理问题,提出完整的高温微电子器件和电路的优化设计理论,研制成宽温区(25—250℃以上)内电特性良好的体硅CMOS电路,研制成功宽温区(25—300℃以上)内电特性良好的SOI CMOS电路,提出完整的ECR/CVD和MBE高质量SiC材料制备方法和器件工艺技术,研制出可工作于350℃以上的SiC MESFET。
高温微电子器件和电器需满足航空航天、核技术和军事电子等高新技术领域的迫切需求,为此,拟开展下列研究工作:硅集成器件高温工作极限;高温MOS器件和集成电路的按比例缩小理论;宽温区MOS和CMOS电路优化设计理论;宽温区(25—250℃以上)的体硅MOS和CMOS集成电路;宽温区(25—300℃以上)S为MOS和CMOS电路;ECR/CVD和MBE SiC薄膜大面积外延生长和掺杂技术;SiC薄膜电参数的测试分析;高温(350℃以上)SiC器件。通过深入研究微电子器件和电路的高温物理问题,提出完整的高温微电子器件和电路的优化设计理论,研制成宽温区(25—250℃以上)内电特性良好的体硅CMOS电路,研制成功宽温区(25—300℃以上)内电特性良好的SOI CMOS电路,提出完整的ECR/CVD和MBE高质量SiC材料制备方法和器件工艺技术,研制出可工作于350℃以上的SiC MESFET。

推荐服务:

Copyright © 2016    国家技术转移西南中心-区域技术转移公共服务平台     All Rights Reserved     蜀ICP备12030382号-1

主办单位:四川省科技厅、四川省科学技术信息研究所、四川省技术转移中心科易网