[01074067]高温微电子器件和电路
交易价格:
面议
所属行业:
微电子
类型:
非专利
交易方式:
资料待完善
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技术详细介绍
高温微电子器件和电器需满足航空航天、核技术和军事电子等高新技术领域的迫切需求,为此,拟开展下列研究工作:硅集成器件高温工作极限;高温MOS器件和集成电路的按比例缩小理论;宽温区MOS和CMOS电路优化设计理论;宽温区(25—250℃以上)的体硅MOS和CMOS集成电路;宽温区(25—300℃以上)S为MOS和CMOS电路;ECR/CVD和MBE SiC薄膜大面积外延生长和掺杂技术;SiC薄膜电参数的测试分析;高温(350℃以上)SiC器件。通过深入研究微电子器件和电路的高温物理问题,提出完整的高温微电子器件和电路的优化设计理论,研制成宽温区(25—250℃以上)内电特性良好的体硅CMOS电路,研制成功宽温区(25—300℃以上)内电特性良好的SOI CMOS电路,提出完整的ECR/CVD和MBE高质量SiC材料制备方法和器件工艺技术,研制出可工作于350℃以上的SiC MESFET。
高温微电子器件和电器需满足航空航天、核技术和军事电子等高新技术领域的迫切需求,为此,拟开展下列研究工作:硅集成器件高温工作极限;高温MOS器件和集成电路的按比例缩小理论;宽温区MOS和CMOS电路优化设计理论;宽温区(25—250℃以上)的体硅MOS和CMOS集成电路;宽温区(25—300℃以上)S为MOS和CMOS电路;ECR/CVD和MBE SiC薄膜大面积外延生长和掺杂技术;SiC薄膜电参数的测试分析;高温(350℃以上)SiC器件。通过深入研究微电子器件和电路的高温物理问题,提出完整的高温微电子器件和电路的优化设计理论,研制成宽温区(25—250℃以上)内电特性良好的体硅CMOS电路,研制成功宽温区(25—300℃以上)内电特性良好的SOI CMOS电路,提出完整的ECR/CVD和MBE高质量SiC材料制备方法和器件工艺技术,研制出可工作于350℃以上的SiC MESFET。