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[00334755]一种萘普生插层复合体的制备方法

交易价格： 面议

所属行业： 新剂型及制剂

类型： 发明专利

技术成熟度： 通过小试

专利所属地：中国

专利号：CN201610131449.0

交易方式： 资料待完善

联系人：北京石油化工学院

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所在地：北京北京市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

摘要：本发明公开了一种萘普生插层复合体的制备方法，首先采用均匀沉淀法合成硝酸根型层状铕氢氧化物NO3‑LEuH作为前驱体；再通过离子交换反应将萘普生阴离子引入所述前驱体的LEuH层间，形成萘普生插层复合体NPX‑LEuH。利用上述制备方法得到复合体后层板Eu3+的荧光显著增强，同时将萘普生置于层间可以对其进行有效保护，控制其在体内的缓慢释放，提高萘普生的应用范围和效果。

[00334755]一种萘普生插层复合体的制备方法

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