[00301006]单点去卷积显微系统与成像方法
交易价格：
面议
所属行业：
光学仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201510603702.3
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
哈尔滨工业大学
进入空间
所在地：黑龙江哈尔滨市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明单点去卷积显微系统与成像方法属于光学显微测量领域；该显微系统包括螺旋相位板等元件；第一平行光最终在荧光样品上形成环形光斑；第二平行光最终在荧光样品上形成圆形光斑；荧光样品表面激发出的荧光被光电探测器接收并成像；在上述单点去卷积显微系统上实现的成像方法，首先得到坐标为(i,j)的物点的灰度值sumi,j，再通过移动荧光样品，遍历i和j的所有取值，利用所有物点的灰度值信息，构造完整的二维图像；本发明与传统STED技术的不同在于在不同时刻照射两束波长相同的激光束，并利用两幅图像求差来缩小感兴趣区域的范围，同时引入去卷积运算，去除非焦平面上的模糊，减少探测器的卷积效应带来的测量误差，最终提高成像系统的分辨率。
摘要：本发明单点去卷积显微系统与成像方法属于光学显微测量领域；该显微系统包括螺旋相位板等元件；第一平行光最终在荧光样品上形成环形光斑；第二平行光最终在荧光样品上形成圆形光斑；荧光样品表面激发出的荧光被光电探测器接收并成像；在上述单点去卷积显微系统上实现的成像方法，首先得到坐标为(i,j)的物点的灰度值sumi,j，再通过移动荧光样品，遍历i和j的所有取值，利用所有物点的灰度值信息，构造完整的二维图像；本发明与传统STED技术的不同在于在不同时刻照射两束波长相同的激光束，并利用两幅图像求差来缩小感兴趣区域的范围，同时引入去卷积运算，去除非焦平面上的模糊，减少探测器的卷积效应带来的测量误差，最终提高成像系统的分辨率。
